金属钛和钛溅射靶材基本相同，均由钛元素组成。区别在于金属钛更像原材料，而钛靶材更像钛产品。钛作为原料可以通过几种方法制成钛溅射靶材，它们广泛用于电子，信息工业，家庭装饰，汽车玻璃制造等高科技领域。在这些行业中，钛靶材主要用于镀膜集成电路，平板等部件的表面面板显示器，或作为装饰及玻璃镀膜等。 钛靶材的性能要求磁控溅射-Ti靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、平面显示屏和家装汽车行业装饰镀膜领域,如玻璃装饰镀膜和轮毂装饰镀膜等.不同行业Ti靶材要求也有很大差别,主要包括:纯度、微观组织、焊接性能、尺寸精度几个方面,具体指标要求如下:1. 纯度 :非集成电路用:99.9%; 集成电路用:99. 更多 »
氮化铌是一种高性能多功能材料，具有极高的热稳定性、电气绝缘性和化学稳定性，具有潜在的工业应用。 氮化铌物理化学性质密度： 8.4熔点： 2573ºC分子式： NNb分子量： 106.91300 性状：浅灰略带黄色莫氏硬度：8显微硬度：14. 3GPa电阻率：200u．cm 典型的B-1型化合物。氯化钠晶体结构。超导临界温度为17.3K。上临界磁场为43T。临界电流密度Jc，(4.2K，20T)高达2×106A/cm2。热稳定性和化学稳定性高，抗中子辐照，优良的超导薄膜材料。在氩气和氮气混合气体中采用溅射法制取。用于制作高度稳定的超导量子仪器器件。 氮化铌稳定性在空气中加热至 更多 »
铌和氧可以形成五种氧化物分别为：NbO，NbO2，Nb2O，Nb6O 和 Nb2O5，其中也只有Nb2O5最为稳定，五氧化二铌以铌氧六面体的结构存在。 氧化铌物理化学性质外观性状: 白色粉末 无气味密度: 4.47 g/mL at 25ºC(lit.)熔点: 1520ºC分子式: Nb2O5分子量: 265.81000溶解性：不溶于水，能溶于熔融的氢氧化钾和硫酸钾，也溶于碱金属的碳酸盐和氢氧化物，以及氢氟酸和热硫酸。 氧化铌性质与稳定性如果遵照规格使用和储存则不会分解，未有已知危险反应，避免氧化物。不溶于水，难溶于酸，能溶于熔融硫酸氢 更多 »
氧化钨是生产硬质合金及钨制品等的粉末冶金原料。按照国家标准（GB/T 3457-1998）分为两种，分别是三氧化钨（简称黄钨），分子式为WO3，以及蓝色氧化钨（简称蓝钨，是一种混合氧化钨），分子式W20O58。黄钨呈浅黄色结晶粉末，蓝钨呈深蓝或蓝黑色结晶粉末。氧化钨的理化性质氧化钨为浅黄色三斜系粉末状晶体。当温度高于740℃时，转变为橙色的四方晶系结晶体，冷却后又恢复原状。空气中稳定，熔点为1473℃，沸点高于1750℃，相对密度为7.16。三氧化钨是钨的氧化物中最稳定的一种，不溶于水和除氢氟酸外的无机酸，能溶于热浓氢氧化钠溶液和氨水生成可溶性的钨酸盐。当温度高于650℃时可被H2还原，在10 更多 »
二氧化硅，是一种无机化合物，化学式为SiO2，硅原子和氧原子长程有序排列形成晶态二氧化硅，短程有序或长程无序排列形成非晶态二氧化硅。 二氧化硅的最简式是SiO2，但SiO2不代表一个简单分子（仅表示二氧化硅晶体中硅和氧的原子个数之比）。纯净的天然二氧化硅晶体，是一种坚硬、脆性、不溶的无色透明的固体，常用于制造光学仪器等。 SiO2晶体结构描述SiO2晶体结构是正四面体的空间网状结构。可以理解为在晶体硅的结构中两个硅原子中间插入一个氧原子，晶体的SiO2是其中的每个硅原子都和周围的四个氧原子结合形成四个共价键，每个氧原子都与周围的两个硅原子形成共价键，这个蔓延下去，形成一个牢固的网状结构，这就是 更多 »
五氧化二钒，是一种金属氧化物，化学式为V2O5，广泛用于冶金、化工等行业，主要用于冶炼钒铁。 五氧化二钒的理化性质密度：3.357g/cm3熔点：690℃沸点：1750℃分子量：182外观：橙黄色溶解性：溶于浓酸、碱，微溶于水，不溶于无水乙醇 。 在700℃以上明显挥发。 700~1125℃分解为氧气和四氧化二钒，使其成为许多有机和无机反应的催化剂。它是强氧化剂，可轻松还原成各种低成本的氧化物。微溶于水，易形成稳定的胶体溶液。它非常易溶于碱，在弱碱性条件下会形成钒酸盐（VO3-）。溶于强酸（通常在pH=2左右溶解）不会生成钒酸盐离子，但会生成价氧钒离子（VO2 +）。对于有毒物质，空气中的最大 更多 »
电解铬是指火法冶金炼制的粗铬金属作为阳极进行电解，通过选择性的阳极溶解与阴极沉积，来生产高纯金属铬。金属铬及铬的化合物在化工、耐火材料和金属材料等领域中有着广泛的应用。铬加入钢中可改变钢的特性，提高钢的韧性。 基本信息：中文名称：电解铬片英文名称：Electrolytic Chromium FlakesCAS号：7440-47-3分子式：Cr分子量：51.99纯度：≥99.9%EC号：231-157-5 物理参数:密度:7.14g/mL(25℃)熔点:1857℃沸点:2672℃ 用途：大多用于制不锈钢等特殊钢，例如：汽车零件、工具、磁带、录像带、菜刀等厨房用品。可以提升钢的强度又具极佳的耐热性 更多 »
钴是一种银白色金属，略带蓝色调，它又脆又硬，具有磁性。由于其比较脆，因此在其他材料中用作添加剂和合金，以改善其特性和物理性能。钴具有非常高的熔点，它即使在很高的温度下也能保持其磁性。它也很耐磨，因此适合添加到其他金属中，例如高速钢、铝和镍。 钴的物理性质钴是具有光泽的钢灰色金属，熔点1493℃，比重8、9，比较硬而脆，钴是铁磁性的，在硬度、抗拉强度、机械加工性能、热力学性质、电化学行为方面与铁和镍相类似。加热到1150℃时磁性消失。钴的化学性质钴的化合价为2价和3价。在常温下不和水作用，在潮湿的空气中也很稳定。在空气中加热至300℃以上时氧化生成CoO，在白热时燃烧成Co₃O₄。氢还原法制成的 更多 »
钛氮化物（TiN）是一种硬度高、耐磨损的材料，广泛应用于纳米压印光刻等领域。钛氮化物溅射被用于在基板上沉积薄膜，以用于纳米压印光刻，这是一种用于纳米制造的高分辨率图案技术。以下是钛氮化物溅射在纳米压印光刻中的一些应用：防粘层：在纳米压印光刻中，需要使用防粘层来防止在压印过程中，压印光刻胶附着于模具上。由于钛氮化物具有高硬度和低表面能量，因此它是这种用途的理想材料。钛氮化物溅射可以用于在基板上沉积薄的钛氮化物防粘层。蚀刻掩模：在纳米压印光刻中，钛氮化物也可以用作蚀刻掩模。在压印后，压印光刻胶被去除，留下在基板上形成了钛氮化物图案层。然后，可以将这一层钛氮化物作为掩膜，用于后续的蚀刻步骤，将图案转 更多 »
由于其独特的性质和在太阳能电池、光探测器和辐射探测器等领域的应用，碘化铅（PbI2）是一种已被广泛研究的化合物。了解PbI2的化学结构对于提高其在这些应用中的性能至关重要。晶体结构PbI2具有由沿c轴堆叠的六角形层组成的分层晶体结构。每个六角形层由排列在紧密填充阵列中的铅离子（Pb2 +）和碘离子（I-）组成。这些六角形层由弱的范德华力保持在一起，这使得晶体沿c轴易于断裂。电子结构PbI2具有约2.3电子伏特的窄带隙，因此是一种半导体材料。其电子结构由价带和导带组成。价带由碘原子的杂化p轨道和铅原子的6s轨道组成。导带主要由碘原子的未杂化6p轨道组成。缺陷和掺杂缺陷和掺杂对PbI2在各种应用中 更多 »
钼三氧化物（MoO3）颗粒因其独特的性质和特点在各个行业中被广泛使用。如果您考虑购买MoO3颗粒用于您的应用程序，则需要了解以下内容：纯度：MoO3颗粒的纯度对于它们在不同应用中的性能至关重要。较高纯度的颗粒将含有较少的杂质，从而提高性能和一致性。颗粒大小：MoO3颗粒可用于各种颗粒大小，从细粉末到较大的颗粒。颗粒的粒径会影响其溶解性、反应性和流动性。表面积：MoO3颗粒的表面积也是一个重要因素。具有较大表面积的颗粒将具有更高的反应性，可能更适合某些应用。化学成分：MoO3颗粒的化学成分也会影响其性能。杂质或化学成分的变化会影响颗粒的物理和化学性质，因此选择具有一致化学成分的颗粒至关重要。应用 更多 »
由于其独特的特性和优势，HfO2颗粒被广泛应用于各种工业应用中。以下是使用HfO2颗粒在工业应用中的一些优势：1.高熔点：HfO2颗粒具有高达2810°C的高熔点，使其在高温应用中非常适用。它们能够在高温下承受高温而不会分解，因此非常适用于炉子，隔热材料和其他高温应用。2.高密度：HfO2颗粒具有高密度（约9.7 g/cm³），使其非常适合于辐射屏蔽，X射线靶材料和其他需要高密度材料的应用。3.高折射率：HfO2颗粒具有高折射率（约2.1），使其非常适用于光学涂层，包括抗反射涂层和反射涂层。它们还可用于光纤，激光器和其他光学设备。4.化学稳定性：HfO2颗粒化学稳定，耐大多数酸和碱。这使其非常 更多 »
铬溅射靶材广泛应用于半导体制造、显示技术和薄膜太阳能电池等各种应用中。选择适合特定应用的铬溅射靶材对确保工艺成功至关重要。以下是选择铬溅射靶材时需要考虑的一些关键因素：纯度：铬溅射靶材的纯度对于实现期望的膜质量和减少缺陷至关重要。对于大多数应用，优选高纯度靶材，例如99.995％。杂质会导致沉积膜中的缺陷，影响最终产品的性能。因此，选择高纯度的靶材非常重要。尺寸：靶材的尺寸取决于溅射腔室的尺寸和所需的沉积面积。选择适合腔室的靶材并提供足够的材料以达到所需的膜厚度非常重要。靶材的尺寸也会影响工艺的均匀性，因此需要考虑沉积区域的形状和靶材的形状。形状：靶材的形状会影响沉积膜的均匀性。平面靶材适用于 更多 »
在选择铬溅射靶材时，有几个因素需要考虑，以确保靶材满足您的特定需求。以下是一些需要牢记的重要注意事项:1. 纯度: 溅射靶材的纯度是影响镀膜质量和性能的关键因素。寻找纯度高的目标，理想情况是超过99.99%。2. 均匀性: 靶材的均匀性对于保证薄膜在衬底表面的均匀沉积是很重要的。靶材的不均匀性会导致不均匀沉积，降低薄膜质量。检查目标有一个低溅射率变化的表面。3.粒度: 靶材的晶粒尺寸会影响靶材的溅射速率和沉积薄膜的质量。较大的晶粒尺寸会导致较高的溅射率，但也会导致薄膜缺陷。寻找具有一致的细粒微结构的目标。4. 密度: 靶材的密度会影响靶材的寿命和溅射率。密度较高的目标往往具有较长的寿命和较高的 更多 »
钛酸钠粉末(Na2TiO3)是一种陶瓷材料，在各个领域都有广泛的应用。下面是钛酸钠粉末的一些用途和应用:1. 催化剂载体: 钛酸钠粉末可作为各种化学反应中的催化剂载体。它具有高的比表面积和多孔结构，可以增强负载催化剂的催化活性。2. 锂离子电池: 钛酸钠粉末可作为锂离子电池的负极材料。它具有很高的容量和稳定性，可以提高电池的性能和安全性。3.环境修复: 钛酸钠粉末可用于从受污染的土壤和水中去除重金属和放射性物质。它对这些污染物具有很高的亲和力，可以有效地固定它们。4. 吸附剂: 钛酸钠粉末可作为各种气体和液体的吸附剂。其多孔结构和高表面积使其在气体分离和水净化等应用中非常有用。 5. 光催化剂 更多 »
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