电子束蒸发可以用什么材料？

电子束蒸发可以金属、合金、金属氧化物等作为源材料制备薄膜，例如铝、镍、铁、硅、氧化铝、二氧化硅、二氧化钛、二氧化锆、碲化镓等。

电子束蒸发

电子束蒸发，是物理气相沉积（PVD）技术的一种，是一种重要的镀膜工艺。电子束蒸发是在真空条件下，利用高能电子束轰击源材料，使其加热蒸发气化后，再输运到基底，在基底表面凝结形成薄膜。电子束蒸发是传统电阻加热蒸发技术的升级工艺，解决了源材料与薄膜直接接触易互混的问题。

在电子束蒸发设备中，源材料被置于水冷坩埚中，可很大程度地降低源材料与坩埚壁发生反应的概率，从而保证薄膜质量；同一设备中可以安装多个坩埚，能够同时蒸发多种不同源材料；由于采用高能电子束对源材料进行轰击，电子束蒸发可将高熔点物质制造成薄膜。总的来看，电子束蒸发具有原材料选择范围宽、可制备高纯薄膜、制膜速度快、膜厚度可控等特点。

适用范围

电子束蒸发镀膜适用于精密机械、工具、航空航天、集装箱和运

输设备、生物医学设备、精密光学仪器、特种电子元件及不同行业中所需要的高性能件。

常用电子束蒸发金属材料

电子束蒸发的优点

与电阻加热蒸发技术相比，电子束蒸发具有热效率高、束流密度大、蒸发速度快、薄膜质量高、厚度可以较准确地控制等优点；与真空溅射技术相比，电子束蒸发具有形成的薄膜基本不会覆盖到目标范围外，通常只会沉积在目标表面的特点。因此，电子束蒸发是目前应用成熟的真空镀膜技术之一。

电子束蒸发的缺点

1. 若电子束及电子流控制不当会引起材料分解或游离，前者会造成吸收后者会造成基板累计电荷而造成膜面放电损伤。

2. 对不同材料所需之电子束的大小及扫描方式不同，因此若镀膜过程中使用不同镀膜材料时必须不时调换。

3. 对于升华材料或稍微溶解即会蒸发之材料，如SiO2，其蒸发速率及蒸发分布不稳定，因此对膜厚的均与性很大影响。若将SiO2 由颗粒状改为块材并调好电子束扫描之形状，则可望获得较好的分布稳定性。

应用场景

电子束蒸发可用来制造光学薄膜、热障涂层、耐磨涂层、耐腐蚀涂层、硬涂层等，广泛应用在半导体、电子、通信、光学仪器、工业设备、汽车、太阳能电池、航空航天、建材等领域。