西安方科新材料科技有限公司(简称西安方科)成立于2012年7月,总部位于古城西安,由西安交通大学材料学专业的博士一手创建,自成立以来,FM致力于生产高纯薄膜涂层材料及各类无机化合物粉末材料,是集研发、生产、销售于一体的拥有自主知识产权的高新技术企业。
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热蒸发材料:薄膜沉积的基本过程 热蒸发是用于在表面沉积薄膜的基本过程,它涉及加热固体材料直到它变成蒸汽,然后凝结在基板上形成薄膜层。 这一过程的成功不仅取决于汽化方法,还取决于所使用的热蒸发材料的特性。 在本文中,我们将探讨热蒸发所需的材料及其在薄膜沉积中的重要性。 热蒸发简介 热蒸发是一种广泛使用的技术,用于在基板上沉积薄膜。 这个过程包括两个重要步骤:第一步是加热材料直到它变成蒸汽,第二步是将蒸汽沉积到基板上以形成薄膜。 材料的蒸发速率取决于几个因素,例如蒸发温度、材料的物理性质和沉积条件。 热蒸发可用于多种材料,包括各种金属、半导体和氧化物。 热蒸发金属 金属是最常用于热蒸发的材料,它们
+氧化钇稳定氧化锆 (YSZ) 是一种陶瓷材料,由于其众多优点而广泛应用于各个行业。 它是由氧化锆和氧化钇组成的化合物,两者都是耐高温材料。 YSZ广泛用于生产陶瓷元件和涂层、电子设备、固体氧化物燃料电池和其他先进应用。 在本文中,我们将探讨 YSZ 的优势及其在现代工业中的重要性。 YSZ 提供卓越的强度和耐用性 YSZ 以其卓越的强度和耐用性而闻名,使其成为高应力应用的理想材料。 它比氧化铝等其他陶瓷具有更高的断裂韧性,并且更耐磨损和腐蚀。 氧化钇的加入稳定了氧化锆的晶体结构,使YSZ具有更高的强度和更好的机械性能。 这使得YSZ适用于各种恶劣环境,如高温、高压和腐蚀性环境。 YSZ 具有高
+可旋转溅射靶:薄膜沉积中的关键部件 可旋转溅射靶,也称为磁控管溅射靶,是用于生产半导体、太阳能电池、光学镀膜和其他先进技术材料的薄膜沉积系统的关键部件。 溅射靶由各种材料制成,包括铝、铜和金,用于将这些材料的薄膜沉积到玻璃、硅和其他金属等基板上。 在本文中,我们将讨论什么是可旋转溅射靶及其在薄膜沉积中的重要性。 溅射靶材简介 溅射是一种通过用离子轰击固体靶材来将薄膜沉积到基板上的过程。 该工艺是在真空室中使用由待沉积材料制成的导电靶进行的。 目标被离子轰击,导致原子从目标材料中喷射出来,然后作为薄膜沉积到基板上。 溅射靶材有各种形状和尺寸,靶材的选择取决于薄膜涂层的所需特性。 可旋转溅射靶:构
+氧化铝,也称为氧化铝,是一种用途广泛的化合物,在不同领域有多种应用。 它主要是一种两性化合物,这意味着它可以与酸和碱发生反应,并表现出一系列的物理和化学性质。 它是一种白色、无臭、无味的粉末,常用于各种行业,包括电子、汽车和医疗领域。 在本文中,我们将详细讨论氧化铝的用途及其在现代工业中的重要性。陶瓷中的氧化铝氧化铝广泛用于陶瓷生产。 陶瓷是一种通过在高温下加热粘土和水的混合物而制成的材料。 将氧化铝添加到混合物中以增强其强度、硬度和耐用性。 使用氧化铝的陶瓷被用于各种应用,包括厨房用具、切削工具和耐火材料,它们可以承受高温。 这些陶瓷还可用于高温应用,例如炉衬、焚化炉和窑炉。热喷涂氧化铝氧化
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