镍钒溅射靶材是在制备镍钒合金的过程中, 在镍熔体中加入钒, 使制备出的合金更有利于磁控溅射, 结合了镍溅射靶材和钒溅射靶材的优点. 随着社会的进步和半导体产业的发展, 电子及信息、 集成电路、 显示器等产业对镍钒靶材的需求量越来越大. 溅射靶材集中用于信息存储、 集成电路、 显示器、 汽车后视镜等产业, 主要用于磁控溅射各种薄膜材料. 磁控溅射是一种制备薄膜材料的方法, 利用离子源产生的离子, 在真空中加速聚集成高速离子流 , 被加速的粒子流轰击到待沉积薄膜的物体表面, 离子和待沉积薄膜的物体表面的原子发生动能交换, 在待沉积薄膜的物体表面沉积上了纳米 ( 或微米 ) 薄膜. 而被轰击的固体是
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