隔膜是锂离子电池的四大主要部件之一，在锂离子电池中起到隔离正负极、防止正负极接触短路和给锂离子提供通道允许锂离子通过的作用。目前为了更好的匹配动力电池的安全和性能要求，涂层隔膜运用于动力电池中已逐渐成为主流。锂电池涂覆材料种类介绍当前市场上涂覆材料种类主要分为无机涂覆、有机涂覆、有机+无机涂覆三种方式。勃姆石勃姆石（AlOOH）在焙烧中能够保持原有的介观形貌，因此可作为制备不同形貌纳米氧化铝的前驱体。除此之外，AlOOH还可用作陶瓷材料、催化剂及载体材料、锂电池隔膜涂层以及光学材料等。作为锂电池涂覆材料，勃姆石主要用于锂电池电芯隔膜和极片的涂覆。涂覆在锂电池电芯隔膜上能够提高隔膜的耐热性，增强 更多 »

在众多化合物中，金属硼化物相较于金属碳化物具有更好的高温性能，例如二硼化物（TiB2）金属陶瓷制品就比碳化钛（TiC）及碳化钨（WC）金属陶瓷制品更适合在高温高侵蚀的工作条件下使用。二硼化钛粉末呈灰色（或灰黑色），在目前已知的世界十大熔点最高材料排名第六位。在空气中抗氧化温度可达1100℃，作为一种新型的陶瓷材料，具有十分优异的理化性能，除熔点极高之外硬度也大，化学稳定性、导电导热性、高温下的机械力学性能都极为优异。二硼化钛分别作为结构材料和功能材料的特点：①结构材料方面。硼化钛的高强度和硬度，使其可以制成刀具、拉丝膜、喷砂嘴和硬质的工具材料，同时它也可以成为复合材料的添加剂。②功能材料方面。 更多 »

冶金工业方面稀土金属或氟化物、硅化物加入钢中，能起到精炼、脱硫、中和低熔点有害杂质的作用，并可以改善钢的加工性能；稀土硅铁合金、稀土硅镁合金作为球化剂生产稀土球墨铸铁，由于这种球墨铸铁特别适用于生产有特殊要求的复杂球铁件，被广泛用于汽车、拖拉机、柴油机等机械制造业；稀土金属添加至镁、铝、铜、锌、镍等有色合金中，可以改善合金的物理化学性能，并提高合金室温及高温机械性能。 石油化工方面用稀土制成的分子筛催化剂，具有活性高、选择性好、抗重金属中毒能力强的优点，因而取代了硅酸铝催化剂用于石油催化裂化过程；在合成氨生产过程中，用少量的硝酸稀土为助催化剂，其处理气量比镍铝催化剂大1.5倍；在合成顺丁橡胶和 更多 »

化学式： Ni粒径：20nm 50nm（黑色） 200nm 500nm 1μm 5μm 10μm（灰黑色）等可选纯度：≥99.9%晶体：球形 片状颜色：黑色 灰黑色镍粉的化合物有哪些？硫化镍粉、一氧化镍粉末、硅化镍粉、硼化镍粉。镍粉的用途：1. 磁流体用纳米铁、纳米钴、纳米镍及其纳米合金粉末生产的磁流体性能优异，可广泛应用于密封减震、器械、声音调节、光显示等领域；2. 催化剂：纳米镍、微米镍粉由于比表面积大和高活性，纳米镍粉具有很强的催化效果，可用于有机物氢化反应、汽车尾气处理等；3. 助燃剂：将纳米镍粉添加到火箭的固体燃料推进剂中可大幅度提高燃料的燃烧速度、燃烧热，改善燃烧的稳定性：4. 导 更多 »

选择靶材种类、材质和气体(氮气、氧气、乙炔、甲烷、氩气等)，确定靶材及气体种类，然后调整气体比例、用量、溅射功率、溅射时间、基材处理温度、溅射温度、溅射时间等工艺参数，制备出颜色膜层，广泛应用于装饰性镀膜行业。 以下是常用材料及其常用气体制作的各类装饰颜色涂层:锆靶＋氮气：黄绿调金黄色锆靶＋甲烷：深浅黑色锆靶＋氧气：白色、透明膜锆靶＋氮气＋甲烷：金色、仿玫瑰金铬靶＋甲烷：深浅黑色铬靶＋氮气：浅黑色铬靶＋氮气＋甲烷：银灰色铬靶＋氧气：轻黄色、紫色、绿色铬靶＋氧气：银色不锈钢靶＋氧气：紫色不锈钢靶＋氮气：蓝色不锈钢靶＋甲烷：亮黑色不锈钢靶＋甲烷＋氮气：蓝黑色硅靶＋氮气：黑色硅靶＋氧气：混浊白、透明 更多 »

有一种透明的金属材料——氧化铟锡（ITO），它是一种合金，由90%的In₂O₃和10%的SnO₂混合而成，它表现为透明茶色薄膜或黄偏灰色块状，且兼具透明和导电的特质，因此主要用于制作液晶显示屏、平板显示屏、等离子显示屏、触摸屏、有机发光二极管、太阳能电池板、抗静电镀膜、EMI屏蔽的透明传导膜，以及各种光学镀膜等，你手里的手机或面前的电脑中很可能就有用它制作的配件，而且手机和触屏电脑的屏幕也可能有用它制作的一层薄膜，所以，虽然你可能都没有听说过这种透明的金属，但是它实际上此刻很可能就在你的手中。 实际上氧化铟锡是一种半导体材料，这种材料中的能带并非连续的，相邻能带之间存在着能量差异，因此与导电性 更多 »

近年来，材料科学家合成了一类新的312型陶瓷材料，它们的通式为M3XZ2，其中，M是一种或几种过渡金属元素（如Ti、V等），X是一种或几种主族元素，多位III、IV主族元素（如Al、Ge、Si等），Z是一种或几种非金属元素（如C、N、B等），目前人们研究的312性三元化合物主要有Ti3SiC2、Ti3AlC2、Ti3GeC2。它们具有相同的晶体结构，同属于P63/mmc空间群。这类化合物的典型代表是Ti3SiC2。1. 什么是是Ti3SiC2层状陶瓷材料钛碳化硅Ti3SiC2（Titanium silicon carbide）是一种综合陶瓷材料，既具有耐高温、抗氧化、高强度的性能，同时又具有金 更多 »

二氧化硅是极其重要的无机新材料之一，尤其是纳米级的二氧化硅由于其粒径很小，微孔多，比表面积大，表面吸附力强，表面能大，化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能，以其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性，在众多学科及领域内应用广泛。1). 电子封装材料将经表面活性处理后的纳米二氧化硅充分分散在有机硅改性环氧树脂封装胶基质中，可以大幅度地缩短封装材料固化时间（为2.0-2.5h）,且固化温度可降低到室温,使器件密封性能得到显著提高,增加器件的使用寿命。2). 树脂复合材料将纳米二氧化硅颗粒充分、均匀地分散到树脂材料中，可全面改善树脂基材料性能。包括：A提高强度和延伸率；B提高耐磨性和 更多 »

半导体材料是一类具有半导体性能，用来制作半导体器件的电子材料。半导体材料是半导体产业的基础，它的发展对半导体技术的发展有极大的影响。 那么半导体材料具有哪些特点及应用呢？ 半导体材料的应用1、 元素半导体材料 硅在当前的应用相当广泛，他不仅是半导体集成电路，半导体器件和硅太阳能电池的基础材料，而且用半导体制作的电子器件和产品已经大范围的进入到人们的生活，人们的家用电器中所用到的电子器件80%以上与案件都离不开硅材料。锗是稀有元素，地壳中的含量较少，由于锗的特有性质，使得它的应用主要集中与制作各种二极管，三极管等。而以锗制作的其他钱江如探测器，也具有着许多的优点，广泛的应用于多个领 更多 »

近几年，硫系玻璃被认为是新一代红外光学镜头材料。常见的红外光学材料主要有ZnSe晶体、Si单晶、Ge单晶、硫系玻璃、氟化物等。 硫系玻璃是一种性能优良的红外光学材料，是以元素周期表VIA族中S、Se、Te为主，并引入一定量的其它类金属元素(Ga、Ge、As、Sb等)所形成的无氧玻璃，可分为硫基（S）玻璃、硒基（Se）玻璃、碲基（Te）玻璃三大体系。 硫系玻璃是一种非晶态物质，与氧化物玻璃相比，具有较弱的共价键特性；禁带宽度为1-3 eV，比氧化物玻璃（~10 eV）小，具有半导体性质。 此外，硫系玻璃还具有优良的透红外性能、高的光学非线性、较低的声子能量、光诱导效应、半导体特性、快离子电导特性 更多 »

纳米材料纳米材料是指至少在一个维度（如长（x）、宽（y）、高（z））上的尺寸在0.1-100纳米之间的材料，如石墨烯、富勒烯C60、碳纳米管、银纳米线、二氧化硅纳米线、二硫化钼等都是纳米材料。其中纳米材料又分为零维、一维、二维纳米材料。 零维纳米材料每一个维度（x, y, z）的尺寸都在0.1-100纳米之间纳米材料就是零维纳米材料，如富勒烯C60和C70。换句话说，就是没有哪个维度的尺寸大于100纳米或者小于1纳米。C60分子的直径约为7.1埃（1埃= 10-10米，即一百亿分之一米）因其每个维度都在0.1-100纳米之间，所以为零维纳米材料。一维纳米材料三个维度中有一个维度的尺寸不在0.1 更多 »

磁控溅射方法可用于制备多种材料,如金属、半导体、绝缘子等.它具有设备简单、易于控制、涂覆面积大、附着力强等优点.磁控溅射发展至今,除了上述一般溅射方法的优点外,还实现了高速、低温、低损伤. 各种功能薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能.例如,在低温下沉积氮化硅减反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率.微电子:可作为非热镀膜技术,主要用于化学气相沉积(CVD).装饰领域的应用:如各种全反射膜和半透明膜;比如手机壳、鼠标等.一些不适合化学气相沉积(MOCVD)的材料可以通过磁控溅射沉积,这种方法可以获得均匀的大面积薄膜.机械工业:如表面功能膜、超硬膜、自润滑膜等.这些膜能有效提高表面硬度、 更多 »

溅射靶材为什么要绑定背靶呢？ 溅射靶材主要应用于电子信息行业，如集成电路、信息存储、液晶显示、激光存储器、电子控制器件等。也可用于玻璃镀膜、耐磨材料、耐高温腐蚀、高档装饰用品等行业领域。 背靶 bondIng指用焊料将靶和背靶粘合在一起。主要有三种方式:压接、钎焊和导电胶。钎焊通常用于靶结合，铟、锡和铟锡通常用于焊料。溅射功率一般小于20W/㎡。 为什么要绑定背靶？防止靶的不均匀开裂，如脆性靶和烧结靶，如ITO、二氧化硅和陶瓷；节约成本，防止变形。如果靶太贵，将靶做得更薄，并粘合背靶以防止变形。背靶无氧铜导电性能好，导热性能优于紫铜；厚度适中，一般推荐背靶厚度3mm左右。太厚，会消耗一部分磁场 更多 »

陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大,纯度越高,溅射薄膜的均匀性和批量产品的质量的一致性越好.除此之外，为了制备高性能的陶瓷靶材，我们应该对这些因素进行控制，主要包括成型方法，原料粒度，烧结的影响，今天就来为大家分析影响陶瓷靶材性能的主要因素有那些。1. 成型方法 为了减少陶瓷靶材的气孔,提高薄膜性能,要求溅射陶瓷靶材具有高密度.低气孔率、高密度意味着陶瓷体内晶粒排列紧密，在承受外界载荷或腐蚀性物质侵蚀的时候不易形成破坏性的突破点。而要得到钙质密度的陶瓷胚体，成型方法是关键。陶瓷靶材的成型一般采用干压、等静压、热压铸等方法。不同的方法具有不同的特点，对养护率陶瓷烧结性和显微结构的影响也会 更多 »

1、压电装置应用氮化铝具备高电阻率，高热导率(为Al2O3的8-10倍)，与硅相近的低膨胀系数，是高温和高功率的电子器件的理想材料。 2、电子封装基片材料常用的陶瓷基片材料有氧化铍、氧化铝、氮化铝等，其中氧化铝陶瓷基板的热导率低，热膨胀系数和硅不太匹配；氧化铍虽然有优良的性能，但其粉末有剧毒。 在现有可作为基板材料使用的陶瓷材料中，氮化硅陶瓷抗弯强度最高，耐磨性好，是综合机械性能最好的陶瓷材料，同时其热膨胀系数最小。而氮化铝陶瓷具有高热导率、好的抗热冲击性、高温下依然拥有良好的力学性能。可以说，从性能的角度讲，氮化铝与氮化硅是目前最适合用作电子封装基片的材料，但他们也有个共同的问题就是价格过高 更多 »