五氧化二铌靶材的性能和用途

五氧化二铌，化学式Nb2O5，受热至400℃颜色变黄，溶于氢氟酸、热硫酸及碱，不溶于水是最稳定的氧化物。其水合物的化学式为Nb2O5· xH2O，受热分解，可溶于浓硫酸、浓盐酸、氢氟酸及强碱， 不溶于水及氨水，在空气中灼烧金属铌或由铌酸脱水可得。

五氧化二铌物理化学性质

CAS：        1313-96-8/12627-00-8

EINECS：  215-213-6

熔点：      1520 °C

分子式： Nb2O5

分子量： 265.810

比重：      4.6

相对介电常数：35-50

带隙：3.4eV。

不溶于水,难溶于酸,能溶于熔融硫酸氢钾或碱金属的碳酸盐、氢氧化物中。

等离子喷涂氧化铌工艺流程

等离子喷涂氧化铌工艺流程是高纯五氧化二铌、离心雾化（造粒、烧结、制粉、筛分、检验、成品入库。等离子喷涂是一种材料表面强化和表面改性的技术，可以使基体表面具有耐磨、耐蚀、耐高温氧化、电绝缘、隔热、防辐射、减磨和密封等性能。等离子喷涂亦有用于医疗用途，在人造骨骼表面喷涂一层数十微米的涂层，作为强化人造骨骼及加强其亲和力的方法。

Nb2O5作为常用的高折射率材料，可以用来溅射哪些材料？

Ta2O5也是常用的高折射率材料,可见到红外波段都是透明的,但不管用电子枪蒸镀还是溅射镀膜(Ta靶),都比镀制TiO2要稳定,取Ta2O5加7%wt的Ta作为初始膜料时,镀膜更加稳定.根据电子枪加离子辅助镀膜及溅射镀膜(Ta靶)的经验,镀Ta2O5比TiO2膜容易得到更小吸收及散射的薄膜,且薄膜的沉积速率也可以快些,堆积密度接近于1,因此常被用来与SiO2一起搭配进行多层滤光片的镀制.

Nb2O5的折射率介于TiO2和Ta2O5之间,在近紫外到红外波段都是透明的,可以采用溅射Nb靶,或电子枪加离子辅助蒸镀Nb2O5来获得堆积密度接近1的优良光学薄膜,不过其镀膜前的预熔非常重要.以前Nb2O5的使用较少,现应用逐渐增多,和SiO2搭配镀制多层滤光片.Nb2O5的价格要远低于Ta2O5.

五氧化二铌的用途

五氧化二铌用作拉铌酸镍单晶，制特种光学玻璃、高频和低频电容器及压电陶瓷元件。也用于生产铌铁和特殊钢需要的各种铌合金。是制取铌及其化合物的原料。还用作催化剂、耐火材料。

氧化铌Nb2O5旋转靶材

氧化铌Nb2O5靶材就是将氧化铌Nb2O5粉末经加水,加粘接剂混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结(1200度，通氩气烧结)形成的深色陶瓷半导体。

氧化铌Nb2O5靶材广泛应用于增透膜、薄膜太阳能电池的制造。它的分子量为266，理论密度4.47g/cm3。熔点1485℃±5℃。不溶于水,难溶于酸,能溶于熔融硫酸氢钾或碱金属的碳酸盐、氢氧化物中。溶解情况:不溶于水，除硫酸和氢氟酸外，不溶于其它酸。不能在大气中烧结。

目前的生产工艺方法就是真空热压法烧结，使用这种方法只能生产平面氧化铌Nb2O5靶材，而平面靶材的材料利用率很低，只有25％左右。致使镀膜材料成本很高。不用热压法,则烧结密度较低只有85％左右,使用中会产生打弧,杂质含量高等问题,无法生产高品质的增透层。这些不良因素都会严重影响薄膜的质量，导致薄膜组织不均匀、成分纯度低。

与平面靶相比，等离子喷涂制备高纯度、高致密性、组织成分均匀、无宏观缺陷的氧化铌旋转靶材利用率由平面靶的约40%提高到80%左右，大大节约了原材料的成木。同时，旋转靶材在磁控溅射技术方面大幅度增加了镀膜面积和提高了镀膜性能质量及镀膜效率。