什么是旋转溅射靶材？

可旋转溅射靶是磁控溅射中常用的靶形。它一般呈圆柱形，内部有固定磁铁，磁场慢速，使溅射率均匀，靶材利用率高。旋转靶通常用于涂覆太阳能电池、建筑玻璃、汽车玻璃、半导体和平板电视。

旋转靶材是什么？

可旋转溅射靶材，也称为可旋转阴极或旋转靶材，是用于称为磁控溅射的溅射沉积技术的专用材料。 溅射是一种物理气相沉积 (PVD) 工艺，是一种高速过程，超高速离子撞击溅射目标，并释放出微小颗粒，广泛应用于半导体、电子和薄膜行业，可将各种材料的薄膜沉积到基材上。

在标准溅射系统中，使用固定溅射靶作为阴极，用高能离子轰击阴极，从其表面释放原子或分子。 然而，在可旋转溅射靶的情况下，靶安装在旋转轴上，使其在溅射过程中旋转。

使用可旋转溅射靶材的主要优点包括：

1.  提高均匀性：目标的旋转有助于在其表面实现更均匀的侵蚀和沉积。 当靶材旋转时，靶材的不同区域会受到离子轰击，从而导致更均匀的侵蚀和沉积速率。 这使得整个基底上的薄膜厚度均匀性和成分控制更好。

   
   

2. 提高目标利用率：对于固定目标，侵蚀通常发生在局部区域，导致目标表面上出现凹槽或凹坑。 通过旋转目标，侵蚀会扩散到更大的表面积，减少局部损坏并延长目标的使用寿命。 目标利用率的提高有助于提高流程效率并减少目标更换的停机时间。

   
   

3. 更高的沉积速率：靶材的旋转运动可以提高电离和溅射效率。 溅射产量的增加可实现更高的沉积速率，从而减少实现所需薄膜厚度所需的总工艺时间。

   
   

4. 提高薄膜质量：可旋转靶材提高了靶材利用率和均匀性，有助于提高薄膜质量。 均匀性的提高有助于最大限度地减少沉积薄膜内的缺陷、杂质和应力，从而提高电学、光学和机械性能
   

旋转靶材的制造工艺

喷涂：FUNCMATER提供行业领先的热喷涂旋转靶材，提供最佳的工艺稳定性和性能，包括等离子、电弧和冷喷涂等生产方法， 使喷涂旋转靶材具有最先进的密度、纯度和气体控制。主要材料包括：AZO、Cr、CuGa、ITO、Mo、NbOx、Si、SiAl、Sn、TiOx、W 合金、Zn 及其合金（ZnSn 和 ZnAl） 、ZnO、ZrOx 和 ZTO。

铸造：主要优点是高成分和显微组织一致性和纯度控制，这有助于高工艺收率和长靶寿命。铸造旋转产品包括In、InSn、Sn 合金、Zn 合金（ZnAl 和 ZnSn）以及众多其他材料。

挤压成型：FUNCMATER是高纯度挤压成型铝、铜、钼、铌、镍合金（铬和钒）、钽、钛、锆、钒和其他材料的知名供应商。 我们针对材料特性（包括纯度和晶粒尺寸）为挤压靶材提供特定于应用的定制解决方案。

HIP/烧结：我们的产品包括 Cr、NiFe 以及 C、Mo 和 W 合金。FUNCMATER对某些材料的背衬管可以进行直接热等静压处理，无需使用焊料即可实现高功率使用。

粘合：FUNCMATER为金属和陶瓷旋转靶提供粘合解决方案，使用 In 和弹性体粘合，适用于多种材料，包括 AZO、C、Cr、Mo、Si 和其他材料。

领先的可旋转靶材制造商

我们的旋转溅射靶具有独特的组合特性，即使在更高的溅射功率下也能提供安全的操作和稳定的过程

我们的生产能力使我们能够制造大尺寸的可旋转靶材:长达3.9米，直径达225毫米。

我们的高品质可旋转(圆柱形)靶材，即使具有“狗骨”轮廓，也没有关节，并且在背管上具有牢固的键合(无铟)。

这些功能允许高功率溅射，并使用户能够溅射到最后一毫米的材料-这意味着比传统的直圆柱形更好的材料使用和更低的拥有成本。 

我们的专有技术还允许我们以最少的材料浪费重复使用背衬管，以实现高成本效益的解决方案。

除了我们的标准和可定制厚度轮廓，在金属，陶瓷和陶瓷配方，我们有研发能力与您合作，开发按需溅射目标配方。

旋转靶材的应用领域

可旋转溅射靶材通常用于需要高质量和大面积薄膜的应用，例如平板显示器、建筑玻璃涂层、太阳能电池和磁性存储介质。

值得注意的是，可旋转溅射靶的设计和规格可能会根据具体的溅射系统和应用要求而有所不同。

更多旋转靶材相关信息，请联系我们