光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。 镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。 更多 »

1) 溅射靶材的工作原理溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。 2) 溅射靶材的组成部分靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。 更多 »

按照材料种类划分，3D打印金属材料可以分为铁基合金、钛及钛基合金、镍基合金、钴铬合金、铝合金、铜合金及贵金属等。 铁基合金是3D 打印金属材料中研究较早、较深入的一类合金，较常用的铁基合金有工具钢、316L 不锈钢、M2 高速钢、H13 模具钢和15-5PH 马氏体时效钢等。铁基合金使用成本较低、硬度高、韧性好，同时具有良好的机械加工性，特别适合于模具制造。 更多 »

当前占据锂电池正极材料的产品主要是钴酸锂、锰酸锂、磷酸铁锂和三元材料等。 锂电池正极材料兴起的第一阶段以钴酸锂（LCO）为主，在2005年~2011年。此阶段的正极材料市场受到消费电池驱动。 LCO因为生产工艺简单，成为第一代成功在市场上取得广泛应用的正极材料，是公认的目前最成熟的正极材料。这种材料循环性能优异，比能量高，可以在高电压下工作而且在充放电的时候电压能够保持平稳。但由于含钴较多，其价格昂贵，而且它的比容量较低，抗过充电性能较差。 更多 »

氧氧化铈是一种无机物，化学式为CeO2，淡黄或黄褐色助粉末。密度7.13g/cm3，熔点2397℃，不溶于水和碱，微溶于酸。 更多 »

靶材是溅射镀膜工艺的轰击目标靶材是制备薄膜的主要材料之一，主要应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等，对材料纯度和稳定性要求高。溅射靶材的工作原理：溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。靶材发展趋势是：高溅射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高纯金属。 更多 »

在当今的半导体制造工艺中，溅射靶材无疑是最重要的原材料，其质量和纯度对半导体产业链的后续生产质量起着关键作用。 在溅射靶材的所有应用中，半导体的技术要求和纯度要求最高，明显高于平板显示器和太阳能电池等其他应用。 更多 »

氮化镓（GaN），是由氮和镓组成的一种半导体材料，因为其禁带宽度大于2.2eV,又被称为宽禁带半导体材料，在国内也称为第三代半导体材料。 氮化镓和其他半导体材料对比上图中我们可以看到，氮化镓比硅禁带宽度大3倍，击穿场强高10倍，饱和电子迁移速度大3倍，热导率高2倍。这些性能提升带来一些的优势就是氮化镓比硅更适合做大功率高频的功率器件，同时体积还更小，功率密度还更大。 更多 »

二硫化钼是一种无机物，化学式为MoS2，是辉钼矿的主要成分。黑色固体粉末，有金属光泽。 用途二硫化钼是重要的固体润滑剂，特别适用于高温高压下。它还有抗磁性，可用作线性光电导体和显示P型或N型导电性能的半导体，具有整流和换能的作用。二硫化钼还可用作复杂烃类脱氢的催化剂。 它也被誉为“高级固体润滑油王”。二硫化钼是由天然钼精矿粉经化学提纯后改变分子结构而制成的固体粉剂。本品色黑稍带银灰色，有金属光泽，触之有滑腻感，不溶于水。产品具有分散性好，不粘结的优点，可添加在各种油脂里，形成绝不粘结的胶体状态，能增加油脂的润滑性和极压性。也适用于高温、高压、高转速高负荷的机械工作状态，延长设备寿命。 更多 »

铜锌锡硫硒Cu2ZnSnSxSe4－x（CZTSSe）是新一代薄膜太阳能电池光吸收层材料。该材料与目前在薄膜太阳能电池领域表现出色的铜铟镓硒CuInxGa1－xSe2（CIGS）具有相似的晶体结构和材料性质。铜锌锡硫硒具有高光吸收系数（大于104cm－1）、可调节带隙（1．0～1．5eV）和良好的抗光衰竭性能，且组成元素在地球上含量丰富、安全无毒，非常适合用于发展高效、廉价、性能稳定的太阳能电池。 更多 »

磁控溅射方法可用于制备多种材料，如金属、半导体、绝缘子等。它具有设备简单、易于控制、涂覆面积大、附着力强等优点。磁控溅射发展至今，除了上述一般溅射方法的优点外，还实现了高速、低温、低损伤。 磁控溅射的六大应用各种功能薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能。例如，在低温下沉积氮化硅减反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率。微电子：可作为非热镀膜技术，主要用于化学气相沉积（CVD）。装饰领域的应用：如各种全反射膜和半透明膜；比如手机壳、鼠标等。一些不适合化学气相沉积（MOCVD）的材料可以通过磁控溅射沉积，这种方法可以获得均匀的大面积薄膜。机械工业：如表面功能膜、超硬膜、自润滑膜等。 更多 »

高纯溅射靶材，包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等。溅射靶材主要涉及平板显示、半导体、存储和太阳能电池四大领域。 铝靶高纯铝及其合金是应用最广泛的导电膜材料之一。 更多 »

钴酸锂是化学式为LiCoO2的化合物。钴酸锂是一种深蓝色或蓝灰色的结晶固体，通常用于锂离子电池的正极。 众所周知，锂离子电池用于手机、笔记本电脑等家用电子产品，由于其能量密度非常高，被认为是未来电动汽车应用中最有前途的储能和转换设备。 钴酸锂主要用于制造手机和笔记本电脑及其它便携式电子设备的锂离子电池作正极材料。锂离子电池作正极材料:涂碳铝箔在锂电池应用中的优势1.抑制电池极化，减少热效应，提高倍率性能；2.降低电池内阻，并明显降低了循环过程的动态内阻增幅；3.提高一致性，增加电池的循环寿命；4.提高活性物质与集流体的粘附力，降低极片制造成本；5.保护集流体不被电解液腐蚀；6.改善磷酸铁锂、钛 更多 »

目前我国主流合金元素添加技术包括中间合金形式添加与合金元素添加剂形式添加。中间合金加入技术在20世纪50-60年代中后期开始在我国运用。从社会效益和材料性能指标方面看，中间合金加入技术属于重复生产环节，即中间合金与最终合金材料的制造工艺高度重合，只是中间合金产品中所含添加元素的比例更高。中间合金的制造需要将热熔温度提升至高熔点金属熔化温度才能完成生产，在造成较高的能耗和原料消耗的同时，也相应导致对空气的污染及碳排放的增加。且中间合金本身作为高温熔化的产物，制造过程中的低熔点金属易烧损产生杂质，导致最终合金材料纯净度的下降，影响材料的最终性能。目前我国中间合金形式的合金元素添加方式已逐步被淘汰， 更多 »

高纯溅射靶材应用领域主要包括半导体、面板、光伏及光学器件。集成电路、平板显示器、太阳能电池、信息存储、工具改性、光学器件、高档装饰用品等生产过程中均需要进行溅射镀膜工艺，溅射靶材应用领域非常广阔。对于靶材用量较大的行业主要有集成电路、平板显示器、太阳能电池、磁记录媒体、光学器件等。其中，高纯溅射靶材则主要用于对材料纯度、稳定性要求更高的领域，如集成电路、平板显示器、太阳能电池、磁记录媒体、智能玻璃等行业。半导体芯片对溅射靶材的技术要求极高，价格也极其昂贵，对于靶材纯度和技术的要求高于平面显示器、太阳能电池等其他应用领域。半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标 更多 »