溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。因此,对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加。 1溅射靶材的种类溅射靶材的种类相当多,即使相同材质的靶材又有不同的规格。靶材的分类有不同的方法:根据形状分为长靶,如 ITO 靶材(1400x900 x6 已焊接)、方靶如 ITO 靶材(3
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