目前热门的导热陶瓷材料主要有氧化铍、氮化铝、碳化硅、氮化硅、氧化铝和聚晶金刚石（PCD）陶瓷等。其中Al2O3陶瓷价格低廉、强度高、化学性能稳定、热稳定性好、绝缘性强，是目前行业研究最透彻、应用最广泛的陶瓷材料之一。但相比于其它陶瓷材料，Al2O3陶瓷的热导率相对较低，且国内外研究人员也使用了各种烧结方法和不同的助烧剂，但都无法进一步大幅提高Al2O3陶瓷的热导率，因此，一般不将Al2O3归为高导热陶瓷。 AlN陶瓷AlN的热导率理论上可达320W/(m·K)，但是由AlN缺陷，导致产生铝空位而散射声子，使得实际产品的热导率不到200W/(m·K)。AlN主要靠声子传热，在热传输过程中，晶体中 更多 »

以固体电解质替代有机液体电解液的全固态锂电池，在解决传统锂离子电池能量密度偏低和使用寿命偏短这两个关键问题的同时，有望彻底解决电池的安全性问题，符合未来大容量新型化学储能技术发展的方向。全固态锂电池，各组成部分大多采用无机粉体材料，通过集成技术形成全电池。 固态电解质粉体固态电解质在全固态锂离子电池中起到传输锂离子的作用。固态电解质可分为有机聚合物电解质和无机固态电解质，前者包括固态聚合物电解质和凝胶聚合物电解质，后者包括氧化物基固态电解质和硫化物基固态电解质。 氧化物电解质粉体以石榴石型固态电解质Li7La3Zr2O12粉体为例：传统的制备LLZO方法主要为固相法和溶胶–凝胶法。固相法得到的 更多 »

钼靶材可以在各种衬底上形成薄膜，广泛应用于电子元器件和电子产品中。钼溅射靶材的性能 钼溅射靶材的性能与其源材料（纯钼或钼合金）相同。钼是一种主要用于钢铁的金属元素，工业氧化钼压制后大部分直接用于炼钢或铸铁，少量钼冶炼成钼铁或钼箔后再用于炼钢。它可以提高合金的强度、硬度、可焊性和韧性，以及耐高温和耐腐蚀性。 钼溅射靶材在平板显示器中的应用 在电子工业中，钼溅射靶材的应用主要集中在平面显示器、薄膜太阳能电池电极和布线材料以及半导体阻挡层材料等方面，这些材料都是以高熔点、高电导率、低比阻抗的钼为基料，良好的耐腐蚀性和环保性能。钼具有比阻抗和膜应力仅为铬的一半的优点，且无环境污染问题，已成为平 更多 »

氧化锆是1970年代开发的一种新型结构陶瓷材料。因其耐磨、耐腐蚀、强度高、熔点高等特点，广泛应用于冶金、电子、化工、机械等领域。 氧化锆陶瓷材料作为先进陶瓷中最重要的材料，是发展现代高新技术产业的重要基础材料。特别是纳米氧化物陶瓷以其特殊的结构和性能成为业界关注的焦点。下面简单介绍一下制备纳米氧化锆陶瓷所需的粉体材料。Ni-P包覆纳米氧化锆复合粉体Ni-P包覆纳米氧化锆（ZrO2）复合粉体的制备工艺首先是制备纳米ZrO2粉体。采用化学沉淀法，然后采用化学镀法制备Ni-P纳米ZrO2粉体。由于 ZrO2 在化学镀镍溶液中没有自催化活性，因此需要对 ZrO2 纳米粒子进行预处理。一般采用一步钯催化 更多 »

作为综合性能最为优良的结构陶瓷材料，氮化硅在高温、高速、强腐蚀介质等极限环境下具有特殊的应用价值，被认为是最具有发展应用前景的结构陶瓷材料之一，在机械工程、冶金化工、航空航天、生物医学、半导体等行业均得到广泛的应用。 氮化硅在烧结过程中会出现α→β相变，这一相变属于结构重建型，必然存在化学键的断裂和生成。对于氮化硅材料而言，高能共价键在烧结过程中是一个不利因素，Si-N共价键的存在导致原子扩散系数比较低。因此，氮化硅的烧结通常采用液相烧结的方式，更容易致密和各方面性能最优化。液相烧结需要烧结助剂的加入，为了提高氮化硅的性能，添加合适的烧结助剂来调节液相的组成以及含量非常重要。 氧化物烧结助剂氧 更多 »

碳纳米管，又名巴基管，是一种具有特殊结构的一维碳纳米材料。碳纳米管本身呈圆管状，与石墨烯片层卷曲而成的结构类似。碳纳米管由于优异的力学、电学、热学及光学特性，在多个领域受到广泛的关注和应用。 01 碳纳米管的发现及发展日本人首次发现碳纳米管。1991年，日本NEC公司基础研究实验室的电子显微镜专家饭岛（Lijima）在高分辨透射电子显微镜下检验石墨电弧设备中产生的球状碳分子时，意外发现了由管状的同轴纳米管组成的碳分子，这就是现在被称作“Carbon nanotube”的碳纳米管。碳纳米管被发现后，引起了研究者们的极大兴趣，在以后的几十年里一直被持续研究并不断发展。1993年，S. Lijima 更多 »

纳米粒是耐高温、耐高温、耐高温、耐高温、抗氧化、耐候性好、耐候性好、性能优良等的功能。它涉及到纳米材料的两个方面，这是一个热点。它涉及到物质与被物质。 首先，其他的纳米粒子与纳米粒子一样，能够与纳米粒子在表面的表面部分看起来一样，在表面部分的中间部分和活性，具有极易聚集的表面面积，其表面极易聚拢，表面面积缩小基于这种特性，可以极大地提高表面活性。 提供，聚水剂对四种不同类型的聚合物可以以一种特殊的性质进行聚合物、聚合物、线性、低粘度、聚合物等）物质，满足使用要求。 1. 纳米氧化铝的“被修饰” 01表面物理修饰表面物理修饰一般是指利用修饰剂对纳米氧化铝粒子的物理作用，如利用范德华力的吸附、涂覆 更多 »

硅微粉，也称石英粉，是由天然石英（SiO2）或熔融石英（天然石英经高温熔融、冷却后的非晶态SiO2）经破碎、球磨（或振动、气流磨）、浮选、酸洗提纯、高纯水处理等多道工艺加工而成的微粉 硅微粉的性能硅微粉除了具备热膨胀系数低、介电性能优异、导热系数高、悬浮性能好等优良性能以外，同时还具备以下性能：（1）具有良好的绝缘性：由于硅微粉纯度高，杂质含量低，性能稳定，电绝缘性能优异，使固化物具有良好的绝缘性能和抗电弧性能。（2）能降低环氧树脂固化反应的放热峰值温度，降低固化物的线膨胀系数和收缩率，从而消除固化物的内应力，防止开裂。（3）抗腐蚀性：硅微粉不易与其它物质反应，与大部分酸、碱不起化学反应，其颗 更多 »

碳化硼是目前已知材料中硬度仅次于金刚石和立方氮化硼的超硬材料,硬度高达3000 kg/mm2;密度低,仅为2.52 g/cm3,是钢铁的1/3;弹性模量高,为450 GPa;熔点高,约为2447℃;其热膨胀系数低,导热率较高。 碳化硼是一种非金属陶瓷材料，灰黑色，具有很多优良的物理化学性质，例如自抛光和自润滑能力良好，可用作特种轴承材料；密度低和力学性能优良，是防弹装甲材料的首选材料；有很强的耐腐蚀能力，几乎不与任何酸碱发生作用，是优良的耐腐蚀材料。此外,碳化硼具有很好的化学稳定性,耐酸耐碱腐蚀,在常温下不与酸碱及大多数无机化合物液体反应,仅在氢氟酸-硫酸、氢氟酸-硝酸混合液中有缓慢的腐蚀;且 更多 »

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镉是1817年被德国哥廷根大学的化学医药学教授斯特罗迈尔发现的。1990年粮农组织和世界卫生组织把微量元素分为三类，第一类是人体必需的，有8种，包括碘、铁、锌、硒、铜、钼、铬、钴；第二类是人体可能必需的，有5种，包括锰、硅、镍、硼、钒等；第三类是具有潜在毒性，但低剂量时，对人体可能具有必需功能的微量元素，包括氟、铅、镉、汞、砷、铝、锂、锡。镉就属于第三类中的一种。 镉从哪来？有何危害？镉主要通过食物、水和空气，经过消化道和呼吸道进入人体内蓄积下来，在人体内代谢较慢。镉摄入过量时，会引起急性、慢性中毒。吸入氧化镉的烟雾可产生急性中毒，中毒早期表现咽痛、咳嗽、胸闷、气短、头晕、恶心、全身酸痛、无力 更多 »

【三氧化钨】三氧化钨，化学式：WO3，是钨(VI)的氧化物，是从钨矿制取单质钨工业的重要中间体。呈黄色粉末，熔点：1472℃， 相对密度（水=1）7.16， 沸点1837℃；不溶于水，溶于碱液，微溶于酸。可由钨矿与纯碱共熔后加酸而得。三氧化钨主要用于煅烧还原生产钨粉和碳化钨粉，进而用于生产硬质合金产品，如刀具和模具的制造。同时也可用于制造纯钨制品、钨条、钨丝，钨电极；和用途配重和辐射的屏蔽材料。工业生产中也有少量的用作黄色陶瓷器的着色剂。 船舶工业中，钨的氧化钨被用作重要的防腐油漆和涂料材料。 【三氧化二钨】三氧化二钨其实就是三氧化钨，其分子结构和三氧化二铝的类似，可用于制作性能更为优异的激光 更多 »

靶材是溅射镀膜工艺的轰击目标靶材是制备薄膜的主要材料之一，主要应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录 媒体、智能玻璃等，对材料纯度和稳定性要求高。溅射靶材的工作原理：溅射是制备薄膜材 料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的 离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体 并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。靶材发展趋势是：高溅射率、晶粒晶向控 制、大尺寸、高纯金属。 靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。（1）靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于 溅射靶材的核心部分，涉及高纯金属、晶粒取向调控。在溅射镀膜过程 更多 »

作为最轻质的金属结构材料，镁在航空航天、汽车、高铁、电子产品和医疗等领域具有广阔的应用前景。然而，相比于传统的金属材料，镁的塑性较差，型材和零件的变形加工困难，工艺成本高。这严重制约了镁作为结构材料的广泛应用。当前主流观点认为，塑性差是镁的本征属性，原因是镁中的锥面位错（一种晶体缺陷）会自发地分解为不可滑移的结构，无法协调塑性变形。因此，提高塑性需要通过添加某些特定的元素来调节锥面位错的行为。但也有一些学者持不同观点，认为锥面位错是有效的塑性变形载体，只要能促进锥面位错的形核和滑移，镁的塑性就可以提高。上述争议直接影响到下一代高塑性镁合金的设计思路和技术路线，因而成为一个急需解决的科学难题。然 更多 »

在OLED的制造工艺中，“蒸镀”是其中的精华部分也是难点，是指在高真空状况下，将所要蒸镀的材料利用电阻或电子束加热，在真空腔体内使用坩埚加热OLED材料使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。 在OLED中，除了发光材料外，就连金属电极等也是这么蒸上去的，因此坩埚的好坏直接影响着OLED制程的良率。若选择不合适的坩埚，就会造成坩锅里的材料蒸镀不完全，达不到设备要求的沸点，无法附着在基板表面上，不仅浪费时间、人力，还会造成蒸镀材料无法有效应用、制程良率变差，增加原物料成本负担。因此选用一个好坩埚，就是一个好的开始。 常用的支撑物有：W、Mo、Ta，耐高温的金属氧化物、陶瓷或石墨坩埚等， 更多 »