三氧化钨产品系列

【三氧化钨】

三氧化钨，化学式：WO3，是钨(VI)的氧化物，是从钨矿制取单质钨工业的重要中间体。呈黄色粉末，熔点：1472℃， 相对密度（水=1）7.16， 沸点1837℃；不溶于水，溶于碱液，微溶于酸。可由钨矿与纯碱共熔后加酸而得。

三氧化钨主要用于煅烧还原生产钨粉和碳化钨粉，进而用于生产硬质合金产品，如刀具和模具的制造。同时也可用于制造纯钨制品、钨条、钨丝，钨电极；和用途配重和辐射的屏蔽材料。工业生产中也有少量的用作黄色陶瓷器的着色剂。 船舶工业中，钨的氧化钨被用作重要的防腐油漆和涂料材料。

【三氧化二钨】

三氧化二钨其实就是三氧化钨，其分子结构和三氧化二铝的类似，可用于制作性能更为优异的激光发射源；用作助催化剂，在SCR脱硝催化剂中发挥抗载体烧结、抗碱金属和硫中毒等作用，从而提升脱硝效率；用作光催化剂，掺杂铁的三氧化钨，相比单纯的三氧化钨和氧化铁，其紫外光及可见光催化活性都有数倍提高。

【正交相三氧化钨】

三氧化钨的结构会随着温度的不同而改变，形成多种晶相，如四方相（740°C以上）、正交相（330-740°C）、单斜相（17-330°C）、三斜相（-50-17°C）等。水热合成法可以在相对温和的条件下制备纳米材料，特别是一些介稳相。水热合成中采用不同的前驱体和调控剂，通过控制温度、浓度、pH值等条件，可获得正交相三氧化钨。

【六方相三氧化钨】

六方相三氧化钨具有层状结构，每一层八面体定点连接，形成六元环，在其晶轴方向会形成一维六方的通道。另外，相邻的六元环互相之间构成三角形，也会形成一维三方通道。很多金属离子可以嵌入到其特殊的六方通道中，从而形成六方相钨青铜，在负极材料和可充电锂离子电池中表现出巨大的应用前景；此外，六方相三氧化钨纳米材料可以应用与光催化降解有机物。

六方相三氧化钨是一种亚稳态晶相，其制备过程一般要求温和，可以由钨酸钠和盐酸为原料，以草酸钾和硫酸钾分别作为添加剂，利用水热法合成。

【纳米三氧化钨】

纳米三氧化钨是颗粒度在一个维度上小于100纳米的三氧化钨颗粒，是一种重要的工业原料。纳米三氧化钨具有较大的比表面积，表面效应显著，是一种很好的催化剂；对电磁波有很强的吸收能力，在太阳能的利用上可作为优良的吸收材料，在军事上可作为重要的隐形材料；作为过渡金属的化合物，纳米三氧化钨还具有半导体特性，是一种很有潜力的敏感材料，对硫化氢、氨气等多种气体具有敏感性；此外，纳米三氧化钨还是一种具有电致变色性、气致变色、光致变色、超导等诸多特性的多功能半导体功能材料。

【三氧化钨陶瓷】

纳米三氧化钨粉末的常用制备方法有固相反应法三氧化钨（WO3）是一种极为重要的高技术材料，这种材料具有非线性、介电常数高、电致变色、气体探测、化学催化等特征。利用WO3的这些特征，可将其纳米粉末烧制成压敏电阻陶瓷、陶瓷电容器、光（电）变色陶瓷薄膜、气敏陶瓷、光催化降解陶瓷薄膜、电池电极陶瓷材料、微波吸收陶瓷薄膜、新型高温热电陶瓷及其薄膜等功能陶瓷与陶瓷薄膜，在化工、能源、电力等众多的领域有着巨大的应用潜力。

陶瓷制品所用原材料的制备方法一般有两种，即机械破碎法与合成法。前一种采用机械原理将粗颗粒破碎以获得细粉，具有生产量大，成本低的优点，但在破碎过程中存在杂质混入的问题，并且难以制得亚微米级的颗粒尺寸；而合成法制得的粉料纯度高、粒度小、成分均匀性好，适合于性能要求高，产量低的先进陶瓷材料的需要。

【三氧化钨靶材】

三氧化钨薄膜是一种重要的功能材料，因其具有优良的电致变色性能而被用于系统中。电子束蒸镀法制备致变色用WO3薄膜常用的蒸镀物质有WO3粉末和WO3靶材两种。目前研究较多的是采用WO3粉末作为蒸镀物质，但是采用粉末的形式通常是不合适的，选择三氧化钨靶材作为蒸镀物质是一种优化方案。

三氧化钨靶材的制备采用一般电子陶瓷的制备方法，其工艺流程一般为：球磨混料—压制成型—烧结。在制备过程中，原料的好坏将对陶瓷的最终性能产生决定性的影响。常见的三氧化钨靶材的制备方法有固相法、气相法和液相法。

【三氧化钨催化剂】

三氧化钨是一种重要的半导体材料，具有催化特性，三氧化钨催化剂在加氢脱硫、SCR脱硝、光催化等方面用途广泛。

【三氧化钨屏蔽材料】

三氧化钨对电磁波具有良好的吸收和屏蔽效果，研究表明，同样厚度的钨或铅屏蔽电子时，钨的能量沉积更多，屏蔽效果明显优于铅。三氧化钨屏蔽材料可以用在医用屏蔽件中；也可以制成金属纤维防辐射服等，具有透气性好、可洗涤、屏蔽效果高、对人体无任何副作用等优势。

金属纤维防辐射服是防辐射服发展史上的第三代防辐射产品。采用氧化钨纤维与纯棉纤维混纺工艺，也就是把氧化钨抽成细丝，在面料内部形成网状结构。这种金属纤维网可以反射电磁波，当金属网孔径小于电磁波波长（波长=光速/频率）1/4时，就能有效将电磁辐射阻挡在体外。