钼金属（Mo）-旋转溅射靶

特征

钼靶材是钼粉冶金后，经烧结、旋压、机械加工而成的一种用于真空镀膜的溅射靶材。

钼平面靶材采用优质板材，密度高，内部无裂纹和砂孔，表面光亮，色泽均匀，尺寸好。钼管靶材选用烧结机加工而成，具有尺寸好等特点，表面光亮，纯度高，密度可达10.1g/cm3，颗粒细，成型性好。

应用

钼旋转靶材用于磁控溅射镀膜领域。钼靶材，如蒸发舟舟、钼坩埚和钨加热丝，都是物理气相沉积（PVD）的消耗品。