硅 (Si)-喷涂旋转溅射靶材

特征

硅是一种重要的溅射靶材，主要用于磁控溅射镀SiO2和SiN介电层的反应体系，作为重要的功能性薄膜材料，它们具有良好的硬度、光学和介电性能以及耐磨、耐腐蚀和其他特点，在光学、微电子等领域有着广阔的应用前景和功能材料受到国际广泛关注。

一般来说，硅靶材可分为单晶型和多晶型。

应用

用于制作SiO2/Si3N4薄膜，主要用于光学玻璃、触摸屏增透膜系统、Low-E镀膜玻璃、半导体电子、平板显示器、触摸屏。