铟金属 (In)-旋转溅射靶材

特征

溅射靶材料是通过溅射方法沉积的薄膜的原料，其主要用于面板显示器，半导体和磁记录薄膜太阳能。

我们的铟旋转目标的纯度可以是4N5。

应用

它是一种用于微电子场，平面显示和储存的巨型磁阻薄膜材料。