铝靶材

铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。

铝靶材分类

铝靶材有平面铝靶材和旋转铝靶材之分

平面铝靶材是片状的，有圆形、方形等。

旋转铝靶材是管状的，利用效率高，但不易加工，要通过高纯铝挤压、拉伸、校直热处理，机加工等多种加工工序才能最终制得铝旋转靶材成品。

靶材概况

铝靶材

常用纯度：99.9% (3N)/ 99.99%(4N)/ 99.999%(5N)/99.9999%(6N）

常用尺寸：100*40mm

最大尺寸：长3000mm

铝靶材生产方法

1、铝的生产和提纯：铝是从铝土矿中提取Al2O3，再在熔融冰晶石中电解而得到的，纯度一般在99%以上，但这样纯度的铝根本无法作为生产铝靶材的原材料，铝靶材对铝材的第一个要求也是最重要的要求就是纯度要高，铝靶材所用的高纯铝是再经过偏析法、三层电解法或联合区域熔炼法生产而成的，价格要比工业纯铝99.7贵很多，国内最高纯度在99.9999%（6N）左右。

2、铝靶材的变形处理：有了高纯度铝锭作为原材料，对原材料进行锻造、轧制、热处理等，使铝锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铝靶材的要求。

3、对变形处理后的高纯度铝材料进行机械加工，铝靶材加工要求精度高、表面质量高，加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了，铝靶材与镀膜机多以螺纹相连接。

铝靶材用途

适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铝靶材的价格较低，所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。