loading
7440-74-6
In
4900RT.
99.9%-99.995%
定制
231-180-0.
特征
溅射靶材料是通过溅射方法沉积的薄膜的原料,其主要用于面板显示器,半导体和磁记录薄膜太阳能。
我们的铟旋转目标的纯度可以是4N5。
应用
它是一种用于微电子场,平面显示和储存的巨型磁阻薄膜材料。
indium_msds.pdf.