ITO溅射靶材

ITO溅射靶材的制作方法

真空热压真空热压利用热能和机械能对ITO粉体进行致密化，可生产出密度为91%～96%的高密度ITO陶瓷靶材。该方法可以轻松获得接近预期密度且孔隙率接近于零的ITO靶材。但受设备和模具尺寸的限制，真空热压在制备大尺寸溅射靶材方面优势较小。 热等静压热等静压 (HIP)通过在压力下烧结或在高温下加压来制备ITO 溅射靶。与真空热压类似，HIP在加热和加压状态下可以获得高密度（几乎是理论密度）和优异的物理和机械性能的产品。但也受设备压力和气缸尺寸的限制。 常温烧结室温烧结是先通过浆料浇注或预压制备高密度靶材预制件，然后在一定气氛和温度下烧结得到ITO靶材。其最大的优势在于能够生产大尺寸的溅射靶材。但与其他烧结方法相比，这种方法制成的靶材纯度较低。 冷等静压冷等静压（CIP）在常温下以橡胶或塑料为覆模材料，以液体为压力介质传递超高压。CIP还可以制备更大尺寸的ITO溅射靶材。而且价格便宜，适合大批量生产。但CIP要求材料在0.1~0.9 MPa的纯氧环境中经过1500~1600°C的高温烧结，具有较高的风险。

ITO 溅射靶材应用

ITO溅射靶材及其衍生品如ITO薄膜、ITO玻璃等，在各行各业有着广泛的应用。ITO靶材常用于制造液晶显示器（LCD）、平板显示器、等离子显示器和触控面板等显示器的透明导电涂层。ITO薄膜用于有机发光二极管、太阳能电池和抗静电涂层。除了电子工业，ITO 靶材还用于各种光学镀膜，最著名的是红外反射镀膜和汽车用钠蒸汽灯玻璃。