铟是如何用于铟绑定的？

铟的基本特性

铟是银白色略带淡蓝色的金属，非常柔软(比铅还软)，其化学性质与铁相似，在常温与熔点之间能与空气中的氧缓慢发生反应，进而在表面形成极薄的氧化膜。其熔点为156.61℃，沸点为2080℃，密度为7.3克／立方厘米，延展性和传导性良好，可塑性强，可压成极薄的片。

铟属稀有金属，在地壳中的含量与银相似，为1×10-5％，但产量仅为银的1％，地壳中的铟矿物主要有：硫铟铜矿、硫铟铁矿和水铟矿等。在自然界中，铟矿物均以微量的形式分散伴生于其他矿物中，迄今未发现单一的或以铟为主要成分的天然铟矿床。现已发现约有50种矿物中含有铟，其中含铟量最高、有工业回收价值的矿物主要是含硫的铅锌矿。此外，锡石、黑钨矿及普通的角闪石也常含较多的铟。闪锌矿中铟含量一般为0.001％～0.1％，有时可高达1％。

应用领域

铟的应用领域很广，特别是在高科技领域，以铟的主要产品铟锡氧化物(Indium－Tin－Oxide，简称ITO)做成的透明电极广泛用于电子信息产业，用来做薄膜晶体管、液晶显示器、等离子显示器等。目前全球有超过50％的铟被用来制造液晶产品。锑化铟和砷化铟可用于红外探测、光磁器件、磁致电阻器及太阳能转换器等；磷化铟用于微波通讯、光纤通讯中的激光光源和太阳能电池材料；硒铟铜多晶薄膜用于制造太阳能电池，在电池的负极材料中添加铟能起到防腐的作用。

铟可与多种金属生成合金。银铅铟合金可制造高速航空发动机的轴承；铟锡合金可作真空密封材料和低熔点合金接点材料，作玻璃与玻璃或玻璃与金属之间的粘结剂；低熔点合金(如伍德合金)中加入铟可以降低其熔点：金、钯、银、铜同铟组成的合金可用来制作假牙和装饰品。

铟用于绑定

目前主流的靶材绑定工艺是采用熔点低，且具有良好导电性、导热性、流动性和浸润性的材料作为绑定材料，常用的材质是铟(In)，它的熔点较低(156.61℃)，且具有非常好的流动性和浸润性。采用铟绑定的靶材为了避免溅射时靶材的脱落，需要控制一定的溅射功率，但是在靶材溅射过程中溅射功率是影响成膜速率的主要原因之一，在现如今的镀膜制备厂商，使用溅射速率高的靶材成为了降低成本的主要手段，溅射速率提高则需要溅射功率提高，进而靶材的表面温度和镀膜腔体温度也会随着提高。现有的靶材背板多数设计简单，无良好的冷却系统，靶材溅射面的热量无法通过冷却系统带走，靶材容易出现绑定层熔化造成靶材脱落的现象，所以在高温环境中使用的靶材就对绑定层的熔点有着较高的要求。

银和铜是具有互相固溶界限的共晶型合金，铜在银中以固溶体形式存在，具有良好的润湿性，并具有良好的强度、延性、导热性、导电性和抗腐蚀性，且熔点较高(600～950℃)，价格低廉，是一种非常好的绑定材料，但绑定材料的熔点越高就意味着绑定作业的温度越高，而常规的绑定方法通常需要手工作业，在如此高温的环境下无法进行手工作业，且在高温环境下焊材易氧化，难以保证绑定质量。