氮化钛溅射在纳米压印中的应用

钛氮化物（TiN）是一种硬度高、耐磨损的材料，广泛应用于纳米压印光刻等领域。钛氮化物溅射被用于在基板上沉积薄膜，以用于纳米压印光刻，这是一种用于纳米制造的高分辨率图案技术。

以下是钛氮化物溅射在纳米压印光刻中的一些应用：

防粘层：

在纳米压印光刻中，需要使用防粘层来防止在压印过程中，压印光刻胶附着于模具上。由于钛氮化物具有高硬度和低表面能量，因此它是这种用途的理想材料。钛氮化物溅射可以用于在基板上沉积薄的钛氮化物防粘层。

蚀刻掩模：

在纳米压印光刻中，钛氮化物也可以用作蚀刻掩模。在压印后，压印光刻胶被去除，留下在基板上形成了钛氮化物图案层。然后，可以将这一层钛氮化物作为掩膜，用于后续的蚀刻步骤，将图案转移到基板上。

硬掩模：

钛氮化物还可以用作直接对基板进行图案刻蚀的硬掩模。钛氮化物溅射用于在基板上沉积厚的钛氮化物层，随后使用标准光刻技术对其进行图案化处理。钛氮化物层充当硬掩模，保护基板免受蚀刻，并确保高保真度的图案转移。

总的来说，钛氮化物溅射在纳米压印光刻中发挥了关键作用，用于制造高分辨率图案。