溅射靶的用途是什么?

溅射是一种成熟的技术，能够将各种各样的材料沉积到不同形状和尺寸的衬底上。该工艺是可重复的，可以从小型研发项目扩大规模，生产批次涉及中到大的基材区域。溅射气体通常是惰性气体，如氩气。为了有效的动量传递，射弹质量必须与目标质量匹配，因此，用于溅射的轻元素氖和重元素氪或氙也被使用。活性气体用于溅射化合物。根据工艺参数的不同，化学反应可以发生在目标表面、飞行中或基材上。许多参数使溅射沉积成为一个复杂的过程，但允许专家在很大程度上控制薄膜的生长和微观结构。

今天许多常用的产品都有通过溅射靶产生的涂层。这些涂料包括:

半导体

大多数现代电子产品的基本部件都是用钽溅射靶生产的。这些产品包括微芯片、存储芯片、打印头、平板显示器等。

玻璃涂料

溅射靶被用于生产低辐射镀膜玻璃，也被称为Low-E玻璃，这种玻璃因其节能、控制光线和美观的能力而广泛应用于建筑施工。

太阳能电池涂层

对可再生能源的需求正在上升。采用溅射镀膜技术制备第三代薄膜太阳能电池。