西安方科新材料
+86-029-88993870              sales@funcmater.com
当前所在位置: 首页 » 产品 » 薄膜涂层材料 » 陶瓷溅射靶 » 氧化物陶瓷溅射靶 » 氧化铟 (In2O3)-溅射靶

产品明细

分享到:

氧化铟 (In2O3)-溅射靶

  • 1312-43-2
  • In2O3
  • 490800ST
  • 99.99%-99.995%
  • 直径101.6×4毫米
  • 215-193-9
状态:

特征

氧化铟(III) (In2O3) 是一种化合物,是铟的两性氧化物。它是一种具有宽禁带宽度、小电阻率和高催化活性的新型n型透明半导体功能材料,已广泛应用于光电领域、气体传感器和催化剂等领域。除了上述功能外,氧化铟粒径的达纳米级还具有纳米材料的表面效应、量子尺寸效应、小尺寸效应和宏观量子隧穿效应。


化学式:In2O3

摩尔质量:277.64 g/mol

外观:黄绿色无臭结晶

密度:7.179 g/cm3

熔点:1,910 °C (3,470 °F; 2,180 K)

水中溶解度:不溶

带隙:~3 eV (300 K)

磁化率(χ):-56.0·10−6厘米3/摩尔



应用

氧化铟用于某些类型的电池、对可见光透明的薄膜红外反射器(热镜)、一些光学涂层和一些抗静电涂层。氧化铟与二氧化锡结合形成氧化铟锡(也称为掺锡氧化铟或 ITO),一种用于透明导电涂层的材料。


在半导体中,氧化铟可用作 n 型半导体,用作集成电路中的电阻元件。


在组织学中,氧化铟被用作一些染色配方的一部分。



上一条: 
下一条: