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氧化铪(HfO2)-棒

  • 12055-23-1
  • HfO2
  • 720800RD
  • 99.995%
  • 直径10毫米x长度10厘米
  • 235-013-2
状态:

特性

氧化铪是通式为HfO2的无机化合物。也称为二氧化铪,这种无色固体是最常见和稳定的化合物之一。它是一种带隙为5.3〜5.7 eV的电绝缘体。


化学式:HfO2

摩尔质量:210.49 g / mol

外观:类白色粉末

密度:9.68 g / cm3,固体 

熔点:2,758°C(4,996°F; 3,031 K)

沸点:5,400°C(9,750°F; 5,670 K)

水中溶解度:不溶

磁化率(χ):− 23.0·10-6厘米3/摩尔


应用

氧化铪用于光学涂层,并用作DRAM电容器和高级金属氧化物半导体器件中的高κ电介质。


近年来,氧化铪(以及掺杂和缺氧的氧化铪)作为电阻开关存储器以及与CMOS兼容的铁电场效应晶体管(FeFET存储器)和存储芯片的可能候选者,引起了更多兴趣。



已经开发出二氧化铪,二氧化硅和其他材料的多层膜用于建筑物的被动冷却。这些薄膜反射太阳光并以穿过地球大气层的波长辐射热量,并且在相同条件下,其温度可能比周围材料低几度。



已经开发出二氧化ha,二氧化硅和其他材料的多层膜用于建筑物的被动冷却。这些薄膜反射太阳光并以穿过地球大气层的波长辐射热量,并且在相同条件下,其温度可能比周围材料低几度。


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