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氮化铟 (InN)-块状

  • 25617-98-5

  • 旅店

  • 490700LP

  • 99.9%

  • 10 毫米直径 X 10 毫米 th。

  • 247-130-6

状态:

特性


氮化铟是一种新型的三族氮化物材料,其吸引力在于其出色的电子传输性能和窄的能带,有望用于制造新型高频太赫兹光电器件。

氮化铟(InN)是一种氮化物半导体材料,在室温和常压下稳定的相为六方纤锌矿结构,是一种直接的带隙半导体材料。


化学式:InN

摩尔质量:128.83 g / mol

外观:黑色粉末

密度:6.81 g / cm3

熔点:1,100°C(2,010°F; 1,370 K)

水中溶解度:水解

带隙:0.65 eV(300 K)

电子迁移率:3200 cm2 /(V.s)(300 K)

导热系数:45 W /(m.K)(300 K)

折光率(nD):2.9

晶体结构:纤锌矿(六方晶)


应用


当前,正在研究使用氮化物基半导体开发太阳能电池。使用一种或多种氮化铟镓(InGaN)合金,可以实现与太阳光谱的光学匹配。 InN的带隙允许利用长达1900nm的波长。但是,如果要使此类太阳能电池成为商业现实,则有许多困难需要克服:InN和富铟InGaN的p型掺杂是最大的挑战之一。事实证明,InN与其他氮化物(GaN,AlN)的异质外延生长是困难的。



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