特征
磷化铟(InP)是由铟和磷组成的二元半导体。它具有面向中心的立方(\“Zincblende”)晶体结构,与GaAs和大部分III-V半导体相同。
化学配方:INP
摩尔质量:145.792克/摩尔
外观:黑色立方晶体
密度:4.81克/厘米3, 坚硬的
熔点:1,062°C(1,944°F; 1,335 k)
溶解度:微溶于酸[1]
带隙:1.344eV(300 k;直接)
电子迁移率:5400 cm2 /(v·s)(300 k)
导热率:0.68W /(CM·K)(300 k)
折射率(ND):3.1(红外);
3.55(632.8 nm)
晶体结构:锌融合
应用
在高功率和高频电子器件中使用INP,因为其相对于更常见的半导体硅和砷化镓等优异的电子速度。
它与铟镓砷化镓一起使用,以制造可以在604GHz的604 GHz上运行的假晶杂交双极晶体管。
它还具有直接的带隙,使其适用于激光二极管等光电子设备。
INP还用作外延铟镓基基的光电电子器件的基板。
特征
磷化铟(InP)是由铟和磷组成的二元半导体。它具有面向中心的立方(\“Zincblende”)晶体结构,与GaAs和大部分III-V半导体相同。
化学配方:INP
摩尔质量:145.792克/摩尔
外观:黑色立方晶体
密度:4.81克/厘米3, 坚硬的
熔点:1,062°C(1,944°F; 1,335 k)
溶解度:微溶于酸[1]
带隙:1.344eV(300 k;直接)
电子迁移率:5400 cm2 /(v·s)(300 k)
导热率:0.68W /(CM·K)(300 k)
折射率(ND):3.1(红外);
3.55(632.8 nm)
晶体结构:锌融合
应用
在高功率和高频电子器件中使用INP,因为其相对于更常见的半导体硅和砷化镓等优异的电子速度。
它与铟镓砷化镓一起使用,以制造可以在604GHz的604 GHz上运行的假晶杂交双极晶体管。
它还具有直接的带隙,使其适用于激光二极管等光电子设备。
INP还用作外延铟镓基基的光电电子器件的基板。