特征
镍硅化物包括几种镍和硅的金属间化合物。硅化镍在微电子学中很重要,因为它们在镍和硅的结处形成。
化学式:Ni2Si
摩尔质量:145.473 g/mol
密度:7.40 g/cm3
熔点:1,255 °C (2,291 °F;1,528 K)
应用
Ni硅化物已被广泛研究用于微电子器件中的接触材料。电镀是金属的另一个主要用途。镍硅化物/硅纳米线异质结构已被用于生产场效应晶体管。
特征
镍硅化物包括几种镍和硅的金属间化合物。硅化镍在微电子学中很重要,因为它们在镍和硅的结处形成。
化学式:Ni2Si
摩尔质量:145.473 g/mol
密度:7.40 g/cm3
熔点:1,255 °C (2,291 °F;1,528 K)
应用
Ni硅化物已被广泛研究用于微电子器件中的接触材料。电镀是金属的另一个主要用途。镍硅化物/硅纳米线异质结构已被用于生产场效应晶体管。